Análise de pó e dispersão. Desenvolvimento de formulações e testes de pigmentos
Tecnologia de Medição de Partículas
A distribuição do tamanho da partícula e form tem uma grande influência nas propriedades, qualidade e processo do produto, transport and storage and storage_39515cdec90 -3b -136bad5cf58d_behavior.
For characterization, different measuring techniques are available. We measure Particle Size Distribuições abaixo do campo sub-100nm.
Difração Laser Estática (ISO 13320)
A luz do laser que é espalhada nas partículas is detectada em diferentes ângulos.
O padrão detectado de luz difratada e espalhada é calculado em distribuições de tamanho de partícula baseadas em massa.
Faixa de medição: 40nm a 2000µm
Preparação da amostra: Dry or molhado
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Optimal área de aplicação para partículas entre 50 nm e 1000 mícrons.
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Aplicação universal para substâncias puras e misturas em pó.
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Os resultados são distribuições de tamanho de partícula baseadas em volume.
PSDA por difração a laser
Dispersão de luz dinâmica DLS (ISO 13321)
Derivação do tamanho das partículas a partir da velocidade de difusão das partículas em dispersão. A dispersão é irradiada com luz laser e a luz dispersa é detectada em grandes ângulos (90° e 180°). a velocidade de difusão of partículas está correlacionada com a flutuação de signals, em que small partículas gera uma flutuação de sinal rápida. O resultado é a distribuição de intensidade.
Faixa de medição: 0,5nm a 10µm
Preparação da amostra: Molhada e altamente diluída
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Área de aplicação ideal para partículas <1000nm.
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Elaborar a preparação da amostra (diluição, filtração, estabilização de partículas)
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A medição depende da viscosidade e da temperatura.
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Sobreposição de sinais fracos de nanopartículas através de sinais intensivos de grandes partículas. Isso significa que a análise de nanopartículas em presença de partes grosseiras não é possível.
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Os resultados são distribuições de tamanho de partícula baseadas em intensidade.
Contagem de partículas Medição de impedância (ISO 13319)
Um método baseado no princípio da medição de impedância. A mudança de resistência enquanto as partículas passam pela zona de medição é proporcional ao volume de partículas.
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Faixa de medição: 0,2 µm a 1600 µm
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Preparação da amostra: Molhado
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Detenção de "Tamanho do excesso" possível
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O método é adequado para medições de distribuições de tamanho de partícula muito estreitas
Micro- und Nanoanalysis _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194-bb3b -136bad5cf58d_ _cc781905-5cde -3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194-bb3b- 136bad5cf58d_ _c c781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_
Os métodos para análise de superfície são X-Ray Photo Electron Spectroscopy XPS and Scanning Electronmicroscopie SEM. Eles são utilizáveis para analisar a composição química e os estados de ligação. Additional a gravação do perfil profundo é possível. Os métodos funcionam em escalas micro, sub 100 nanômetros e nanômetros.
Espectroscopia de fotoelétrons de raios-X XPS
Usando XPS, a composição química da superfície de powder é analisada. O resultado é a distribuição de substâncias químicas. Com a técnica Ar-sputtering, a superfície dos sólidos pode ser removida. Assim, a mudança de concentração dependente da profundidade do perfil pode ser medida.
Composição química, estrutura química e estados de ligação in micron escala pode ser investigada.
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Chemical 2D card of a XPS análise de superfície
Análises químicas
Triagem de elemento ICP-OES
Digestion of your powder sample according DIN EN 13656 and semiquantitative overview analysis_cc781905-5cde -3194-bb3b-136bad5cf58d_using ICP-OES according DIN EN ISO 11885._d04a07d8-9cd1-3239- 9149-20813d6c673b_
O resultado da análise é um elemento semiquantitative element screening of 69.
Análise RFA
Análise geral de estado sólido de acordo com DIN EN 15309
O resultado da análise é a semiquantitative element screening (metais)
