Feststoffe

 
Partikelmesstechnik
Die Verteilung der Teilchengrösse und der Partikelform eines Pulvers haben in vielen Fällen einen grossen Einfluss auf die Produkteigenschaft, die Produktqualität, sowie auf das Verarbeitungs- Transport und Lagerverhalten..
Zur Charakterisierung stehen  unterschiedliche physikalische  Messtechniken zur Verfügung von denen je nach Applikation ein geeignete Methode eingesetzt wird.
Wir messen Partikelgrössenverteilungen hinunter bis in den Sub-100nm-Bereich.
 
 

Statische Laserbeugung (ISO 13320)

Das an den Partikeln gestreute Laserlicht wird unter verschiedenen Winkeln detektiert.

Die aufgenommenen Beugungs- und Streulichtmuster werden über mathematische Algorithmen in massebasierte Partikelgrößenverteilungen umgerechnet.

 

Messbereich: 40nm bis 2000µm

Probenvorbereitung: Trockenmessung und/oder Nassmessung

 

  • Optimaler Einsatzbereich für Partikel von 100nm bis 100µm

  • Universell einsetzbare Methode für Pulvermischungen und Reinsubstanzen

  •  Einfache Probenvorbereitung als Suspension und Pulver  

  • Reinsubstanzen mit bekannten optischen Eigenschaften hinunter bis  Partikel-größen von 40nm messbar.

  • Dispersionen ab einer Feststoffkonzentration von rund 0,5 Vol% messbar

  • Ausgabe volumenverteilter Partikelgrößenverteilungen.

 

PSDA Messung mittels Laserbeugung

Dynamische Lichtstreuung DLS (ISO 13321)

Ableitung der Partikelgröße aus der Diffusionsgeschwindigkeit mit der sich die Partikel in einer Suspension oder Emulsion bewegen. Die Suspension wird mit Laserlicht bestrahlt und das Streulicht unter großen Winkeln (90° und 180°) detektiert. Die Bewegungsgeschwindigkeit der Partikel korreliert mit der Fluktuation des Signals, wobei kleine Partikel eine schnelle Signalfluktuation erzeugen. Das Ergebnis ist eine Intensitätsverteilung.

 

Messbereich: 0,5nm bis 10µm

Probenvorbereitung: Nassmessung

 

  • Optimaler Einsatzbereich für Partikel <100nm

  • Aufwendige Probenvorbereitung (Verdünnung Filtration, Stabilisierung der Partikel)

  • Messung ist Viskositäts- und Temperaturabhängig

  • Überlagerung der schwächeren Nanopartikelsignale durch starke Signale von Grobpartikelkontaminationen. D.h. Nanopertikelanalyse in Anwesenheit von Grobanteilen nicht möglich.

  • Ausgabe Intensitätsverteilter Partikelgrößenverteilungen

Partikelzählung Impendanzmessverfahren (ISO 13319)

Ein Partikelzählverfahren, beruhend auf dem Prinzip des Impendanzmessverfahrens. Die Wiederstandsänderung bei Durchgang der Partikel durch die Messzone ist proportional zum Partikelvolumen.

 

  • Messbereich: 0,2µm bis 1600µm  

  • Probenvorbereitung: Nassmessung

  • Detektion von "Überkorn"

  • Geeignete Methode zur Messung von sehr schmalen Partikelgrößenverteilungen

  • Zahlreiche Kapillaren sind für einen weiten Messbereich verfügbar.

 

Mikro- und Nanoanalyse                                                                                                      

Die zur Oberflächenanalytik eingesetzten Methoden TOF-SIMS, Microfocus XPS und Auger Scanning Elektronenmikroskopie sind geeignet, um die chemische Zusammensetzung, -Struktur und -Bindungszustände von anorganischen und organischen Materialien zu analysieren. Darüber hinaus sind die Aufnahme von chemischen 2-dimensionalen Karten und die Aufnahme von Tiefenprofilen möglich. Die Methoden sind komplementär zueinander, so sie auf den Mircon-, Sub 100 Nanometer-, und Nanometerscalen arbeiten. 

Mikrofokus-Röntgen- Photoelektronen- Spektrometer XPS

Mit Mikrofokus-XPS wird die lokale chemische Zusammensetzung der Oberfläche einer Probe (z.B. chemische Karte von Nanopartikeln) bestimmt. Verschiedene Elemente können unterschieden werden und die Bindungszustände lassen sich beschreiben. Ergebnis sind 2-dimensionale Intensitätsprofile welche die lokale Verteilung von chemischen Verbindungen wiedergeben. Durch Sputtern mit Ar-Ionen lässt sich die Oberfläche abtragen. Oxidschichten werden entfernt und es verbleibt reine unoxidierte Schicht. Eine Veränderung der Konzentration von Elementen mit zunehmender Schichttiefe kann so gemessen werden.

 

Chemische Zusammensetzung, chemische Struktur und Bindungszustände im Mikrometerbereich.

 

  • Analyse anorganischer und organischer Materialien.

  • Identifizierung von Bindungs- und Oxidationszuständen.

  • 2D Mapping

  • Erstellung von Tiefenprofilen

  • Zahlreiche Probesysteme (Metalle und Legierungen, Polymer, Keramik)

 

Empfindlichkeit:        0,1 bis 1 Atom %

Informationstiefe:     1nm bis 10nm

Laterale Auflösung:  < 10µm

Tiefenprofilierung:    Bis zu 1nm vertikale  Auflösung

Chemische 2D Karte einer XPS Oberflächenanalyse

Instrument PHI 5000 VersaProbe 

 

Chemische Analyse

ICP-OES Elementscreening

Druckaufschluss der Pulverprobe nach DIN EN 13656 und semiquantitative Übersichtsanalyse  mittels ICP-OES nach DIN EN ISO DIN EN 11885.

Als Analysenergebnis erhalten Sie eine semiquantitative Feststoffanalyse Elementscreening von 69 Elementen.

RFA Analyse

Feststoff Übersichtsanalyse in Anlehnung an DIN EN 15309.

Als Analysenergebnis erhalten Sie ein semiquantitatives Elementscreening (Metalle).

PULVERANALYSE

Fine Powder Analysis

Roitzheimer Str. 61

53879 Euskirchen

Germany

 

Telefon: +49(0)2251-7848-352
Telefax: +49(0)2251-7848-363

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