粒子测量技术
粒度分布和 form对产品性能、质量和工艺有很大影响, transport_cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf57cde-19dec_and9 storage_ -3b -136bad5cf58d_behavior.
For characterization, different measuring techniques are available. We measure Particle Size分布低至亚 100nm 区域。
静态激光衍射 (ISO 13320)
在粒子处散射的激光是 detected 不同角度。
在基于质量的粒度分布中计算检测到的衍射和散射光图案。
测量范围:40nm 至 2000µm
样品制备:Dry or wet
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Optimal 50nm到1000微米粒子的应用领域。
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纯物质和粉末混合物的普遍应用。
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结果是基于体积的粒度分布。
激光衍射PSDA
动态光散射 DLS (ISO 13321)
从粒子在分散体中的扩散速度推导粒子大小。用激光辐射色散,并以大角度(90°和180°)检测散射光。粒子的扩散速度 of 与 signals 的波动相关,由此 signals 产生 fastd 信号波动。结果是强度分布。
测量范围:0.5nm 至 10µm
样品制备:湿润且高度稀释
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粒子 <1000nm 的最佳应用区域。
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精细的样品制备(稀释、过滤、颗粒稳定)
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测量取决于粘度和温度。
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通过大粒子的强信号叠加来自纳米粒子的微弱信号。这意味着不可能对出现粗粒的纳米粒子进行分析。
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结果是基于强度的粒度分布。
粒子计数 阻抗测量 (ISO 13319)
一种基于阻抗测量原理的方法。粒子通过测量区时电阻的变化与粒子体积成正比。
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测量范围:0.2 µm 至 1600 µm
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样品制备:湿
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detention of “Overgrain size”可能
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方法适用于测量非常窄的粒度分布
Micro- und Nanoanalysis _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194-bb3b -136bad5cf58d_ _cc781905-5cde -3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194-bb3b- 136bad5cf58d_ _c c781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_
表面分析方法是 X 射线光电子能谱 XPS 和 扫描电子显微镜 SEM。它们可用于分析化学成分和键合状态。 另外可以记录深剖面。这些方法适用于微米、亚 100 纳米和纳米尺度。
X射线光电子能谱 聚苯乙烯
使用 XPS 分析 powder 表面的化学成分 composition。结果是 化学物质的分布。 使用 Ar 溅射技术可以去除固体表面。 因此可以测量浓度随剖面深度的变化。
可以研究化学成分、chemical structure 和 binding states in micron 尺度。
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Chemical 2D card of a XPS表面分析
化学分析
ICP-OES 元素筛选
Digestion of your powder sample according DIN EN 13656 and semiquantitative overview analysis_cc781905-5cde -3194-bb3b-136bad5cf58d_using ICP-OES according DIN EN ISO 11885._d04a07d8-9cd1-3239- 9149-20813d6c673b_
分析结果为semiquantitative element screening of 69个元素。
射频分析
根据 DIN EN 15309 进行固态概览分析
分析结果为a semiquantitative element screening(金属)