粒子测量技术
在许多情况下,粉末的粒径分布和颗粒形状对产品特性、产品质量以及加工、运输和储存行为有重大影响。
不同的物理 测量技术可用于表征,根据应用使用合适的方法。
我们测量低至 100 纳米以下的粒径分布。
静态激光衍射 (ISO 13320)
以不同角度检测被粒子散射的激光。
使用数学算法将记录的衍射和散射光图案转换为基于质量的粒度分布。
测量范围:40nm 至 2000µm
样品制备:干法测量和/或湿法测量
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100nm 至 100µm 颗粒的最佳应用范围
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粉末混合物和纯物质的普遍适用方法
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Simple 样品制备为悬浮液和粉末
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已知光学性质的纯物质低至 可测量40nm的粒径。
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分散体可以从约 0.5%(体积)的固体浓度开始测量
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体积分布粒度分布的输出。
使用激光衍射的 PSDA 测量
动态光散射 DLS (ISO 13321)
从颗粒在悬浮液或乳液中移动的扩散速度推导粒径。用激光照射悬浮液,并以大角度(90° 和 180°)检测散射光。粒子的移动速度与信号的波动相关,小粒子会产生快速的信号波动。结果是强度分布。
测量范围:0.5nm 至 10µm
制样:湿法测量
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粒子<100nm的最佳应用范围
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精细的样品制备(稀释、过滤、颗粒稳定)
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测量取决于粘度和温度
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来自粗颗粒污染的强信号叠加较弱的纳米颗粒信号。即在存在粗颗粒的情况下不可能进行纳米颗粒分析。
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输出强度分布的粒度分布
粒子计数阻抗测量方法(ISO 13319)
一种基于阻抗测量法原理的粒子计数方法。颗粒通过测量区时电阻的变化与颗粒体积成正比。
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测量范围:0.2 µm 至 1600 µm
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制样:湿法测量
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检测“超大”
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适用于测量非常窄的粒度分布的方法
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许多毛细管可用于广泛的测量范围.
Mikro- und Nanoanalyse _cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194-bb3b -136bad5cf58d_ _c c781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_
用于表面分析的TOF-SIMS、Microfocus XPS和Auger扫描电子显微镜方法适用于分析无机和有机材料的化学成分、结构和成键状态。此外,化学二维图的记录和深度剖面的记录也是可能的。这些方法在微米、亚 100 纳米和纳米尺度上工作时相互补充。
微焦点X射线光电子能谱仪 聚苯乙烯
使用微焦点 XPS 可以确定样品表面的局部化学成分(例如纳米粒子的化学图)。可以区分不同的元素并描述结合状态。结果是反映化合物局部分布的二维强度分布。可以通过用 Ar 离子溅射去除表面。氧化层被去除,纯净的未氧化层保留下来。以这种方式可以测量元素浓度随层深度增加的变化。
微米范围内的化学成分、化学结构和键合状态。
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分析无机和有机材料。
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结合和氧化态的鉴定。
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二维映射
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创建深度剖面
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多种样品系统(金属和合金、聚合物、陶瓷)
Sensitivity: _cc781905-5cde -3194-bb3b-131cf5d5b-1 %1 原子
信息深度: 1nm到10nm
横向分辨率: < 10µm
深度剖析: Up to 1nm vertical resolution
XPS 的化学二维图表面分析
仪器 PHI 5000 VersaProbe
化学分析
ICP-OES 元素筛选
Druckaufschluss der Pulverprobe nach DIN EN 13656 und semiquantitative Übersichtsanalyse _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_by ICP-OES according to DIN EN ISO DIN EN 11885。
分析结果是 you get a semiquantitative Solid Analysis 69种元素的元素筛选。
射频分析
solid 基于 DIN EN 15309 的概述分析。
您将收到半定量元素筛选(金属)作为分析结果。